矽片清洗水處理
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基本情況
微量汙染也會導致器件失效。清洗的目的在於清除表麵汙染雜質，包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態，有的以薄膜形式或顆粒形式存在於矽片表麵。有機汙染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機汙染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴重影響少數載流子壽命和表麵電導；堿金屬如鈉等，引起嚴重漏電；顆粒汙染包括矽渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等，會導致各種缺陷。
工藝流程圖
方案優勢
1、主要零部件均采用世界名牌産品，經CAD設計，技術先進，性能可靠、産水性能優良。
2、前置預處理保護裝置，確保高壓泵及反滲透膜不受硬物損壞。
3、脫鹽率高，運行壓力低的卷式複合膜提高了係統效率，並除低了運行成本。
4、産品濃縮水各設有流量計，以監視並調節運行出水量及係統回收率。
5、在線電導儀表連續監測産品水質，帶有設定值和報警。
6、進水及排水係統壓力表監測反滲透壓差，提示清洗時間，全麵的係統監視，自動的儀表顯示。
7、靈敏的高壓、低壓開關;防止在異常狀況下對設備的損壞，確保係統的正常運轉。
8、矽材料清洗用超純水處理設備采用先進的膜保護係統定時衝洗膜表麵，降低汙染速度，延長膜使用壽命。
